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下一代EUV光刻機(jī)
當(dāng)前大芯片十分火熱,但卻由于尺寸太大無法適應(yīng)高 NA 曝光工具的 ? 場。為了能夠繼續(xù)生產(chǎn)具有相似尺寸的芯片,需要采用拼接。換句話說,就是一部分芯片使用一個掩膜進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印,而其余部分通過第二個掩膜曝...
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半導(dǎo)體
光掩膜
半導(dǎo)體行業(yè)觀察
2022-05-30 13:00
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